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​电子特气柜对等离子刻蚀气体三氟化氮(NF3)的作用

2021-01-25 11:24:20    责任编辑: 特气柜设计制造公司     0

三氟化氮(NF3),在微网络重制造业中是一个种高品质的等正离子蚀刻甲烷有害实验室气体,逐渐納米高技术和网络重制造业的讯速壮大,其消费适用量也在逐渐延长。高纯三氟化氮(NF3)应属网络特气,毒副作用弱于,人简单了解就会有比较大的危险物品,此刻,便须得网络特气柜这个的重型甲烷有害实验室气体的设备来切实保障甲烷有害实验室气体的饱和度和适用安全性高。



一些是三氟化氮?

三氟化氮(nitrogen trifluoride)电化学公式NF₃,在常温的下就就是一种透明、无臭、特点可靠的混合有机废气的气体,就就是一种强防氧化物。NF3是低致癌性材料,然而 它能微弱条件刺激视线、新皮肤和喘气道和粘膜,灼伤组织安排,学习得出结论:大鼠吸取到1000ppm·l个每小时左右没见死,但出显普通火车赤红蛋白酶血症,当吸取到10000ppm·l个每小时左右有死,在2500ppm时吸食毒品后4个每小时左右死。要指导在光电子厂服务业刻蚀工艺技术中,所用的NF3是存放在混合有机废气的气体氧气瓶中的高色度挤压混合有机废气的气体。


三氟化氮的应用领域:

高纯三氟化氮(NF3)具备有是优良的蚀刻时延和选性(对空气氧化硅和硅),它在被蚀刻物面没有随便余留物,同時是是良好的的洗涤剂。三氟化氮关键于有机化学液相淀积(CVD)安全装置的洗涤,同時在处理芯片开发、高脉冲激光脉冲激光器几个方面有了一大批的用到。三氟化氮能够 另外或与其他一些有机废气有毒气体团体,应用做等阳离子体生产技术的蚀刻有机废气有毒气体,举个例子,NF3、NF3/Ar、NF3/He用做硅有机化合物MoSi2的蚀刻;NF3/CCl4、NF3/HCl既用做MoSi2的蚀刻,也用做NbSi2的蚀刻。



电子特气柜的功能作用:

智能电子特气柜是专为易燃易爆物品易爆、毒素、金属酸性等的风险性汽体供应商而开发的特殊汽体系统软件产品,按类型可构成全自功、半自功和清理进行操作,有甚至自功吹扫、自功变换甚至应紧具体情况下的自功安全性切割(当更改报警灯移动信号被重置时)等主要功能性。

其中全自动电子特气柜采用PLC为控制主体,以触摸屏进行系统显示和设定,配合合理设计布局的高纯阀件及气体监测泄漏报警系统等,可保持气体的安全稳定及高纯度,保证实验或生产正常进行。


综上,三氟化氮(NF3)是微电子行业中一种优良的等离子刻蚀气体,是一种对人体有很大危险性的电子特气,电子特气柜的作用是可以保证三氟化氮(NF3)气体的运输安全、使用安全、气体的纯度和提供连续稳定的气体压力。感谢您的阅读!