在反应室里，气态反应物经化学反应生成固态物质并沉积在硅片表面的薄膜沉积技术，被称为CVD（化学气相沉积）。它有一个基本特征：CVD工艺中反应物必须以气相形式参与反应，配置特气柜的好处就体现在这上面。

混合有毒实验室气体的传送数据就须要所需供氧装置化，而此类含透明膜分为水分子混合有毒实验室气体多半是特种工艺混合有毒实验室气体，含有特定的危害性性，如SiNx透明膜，常做为结合电路板原理之后的钝化保護层，的提升结合电路板原理的可以信赖性，以，须要应用特气装置化，增加特气柜。

CVD配资特气柜的用处：

1.  机械实验室的甲烷气体在开云电子  WOFIY全自然特气柜(GC)中，食用前会所经反复自然吹扫，减少被实验室的甲烷气体杂质残渣环保问题，绝对实验室的甲烷气体原料料的含量；

2.  开云电子 WOFIY全自己特气柜（GC）以PLC为管理核心，合作触摸式屏实行平台彰显和因素，可自己设置成燃气管道安装，确保陆续比较稳定高含量的气体输送机，保持科学试验或制造常见实行；

3.  开云电子 WOFIY全系统自动的特气柜（GC）的箱体钢板板材厚度不不超过2.5mm，有防蚀蚀耐磨涂层，在柜门退出时，气瓶柜体部是所处-压工作状态，柜体的通风口通风换气的声音频率不不超过300次/H，告警侦测警报声音特点完善，在应急情況下易系统自动的的安会立即切断（当修改告警表现被激发时），服务保障生产销售的安会和人士的安会。

以上，便是CVD（化学气相沉积）配置特气柜的一些好处的简单介绍，更多气体应用资讯，请关注开云电子 ，感谢您的阅读！