半导体芯片晶圆厂在晶圆加工制造生产工艺中安全使用到的有机化学产品货品非常多，运用到的原原材料或副物质含有多重危害性性气休，在生产工艺后出現使用量当上废液，排放除理机器设备(Local Scrubber)快速设置的，只是 要想除理譬如某些的危害性性气休。

半导体制程中使用气体

法律依据想关法规爆破低限在11%有以下或爆破超出与低限之差在百分之一十之上之甲烷气体，在半导体材料厂用到的有：AsH3、B2H6、SiH4、SiH2Cl2、Si2H6、SiHCl3、GeH4、PH3、NH3、H2、H2Se、H2S等；前提一些法律规定允许有机废气浓度在1000万分之一百下例之渗透性气态在半导厂适用的有：AsH3、AsCl3、B2H6、BF3、CL2、SiH4、SiF4、NH3、CCl4、HBr、HF、PCl3、POCL3、GeH4、PF3、HCl、PH3、H2Se、H2S等。

在这当中涵盖许多特别的轻金属与氢化物如SIH4、WF6等产物；与此还成了始终维持机台的平均温度把控、抗物理想法的研磨与特别的需求分析，也会应用较100碳原子的PFCs等温室废气。此类危险性废气及全氟单质，有诸多是具备有几项上述之性质，如酸性性废气，大部分所说亦与此还具备有毒素;又如PH3则具备有金属氧化性和毒素外，亦具备有可燃性，且对环境及人体内的干扰比较大。此类工艺后残存的废气要是于管道中想法，轻者可能性出现的管道堵住、管线金属蚀化等话题，情况严重的人几乎出现信息泄露及着火我们，停下生育的事由。

制造废气办理设施(Local Scrubber)放置主要目的

生产工艺排放条件物解决环保设备(Local Scrubber)设立之目标，正是为着解决某种意义某些的害处性气味，让其在洁净室机台端(POU)反映被排放条件物出后，即由真空环境Pump抽至Local Scrubber做解决，避开在繁琐的改装排气管过程中 中致使非预期目标的气味渗漏，身体局部聚积或能够 反映。待解决之后的气味再接转至厂务端做2、道应对，以降低厂务端生态破坏物解决上的载荷，达成对光电器件业气生态破坏管理及排放条件物的条件。如若一旦有出现一些问题从根本上遭受泄密的一些问题，很有机会会会形成各样攻击如火警非常强大、专业工作人员重毒、地区环境破碎等攻击，嚴重时更有机会形成专业工作人员死亡或生育断开等大损失率，故内地各晶圆厂莫不藉由各样管理系统方式英文，来高达生产工艺氮氧化合物地区外理机的攻击把握。

综上所述，制程尾气处理设备Local Scrubber设置目的是为了，可以行之有效的处理制程中的有害性气体残留，避免风管堵塞、管路腐蚀、发生泄漏及火灾爆炸，停止生产等问题事故的发生。